2026深圳國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜展會(huì)

2026深圳國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜展會(huì)，將于2026-04-09 至 2026-04-11在深圳會(huì)展中心舉辦，主辦單位為中國(guó)電子學(xué)會(huì)電子材料學(xué)分會(huì)。本屆展會(huì)規(guī)劃展覽面積數(shù)萬(wàn)平方米，參展品近千家，觀眾近數(shù)萬(wàn)人次。誠(chéng)邀參展參觀！
2026深圳國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜展會(huì)展會(huì)期間，擬邀請(qǐng)參會(huì)嘉賓、專業(yè)觀眾及參展客商上萬(wàn)人，總參觀人次預(yù)計(jì)不低于1-5萬(wàn)人次。還邀請(qǐng)各大專院校、科研單位、相關(guān)行業(yè)協(xié)會(huì)、新聞媒體、投資貿(mào)易機(jī)構(gòu)人士參觀采購(gòu)。致力為企業(yè)提供集貿(mào)易合作、展示交易、宣傳推廣、技術(shù)交流、高端研討、商品展示于一體的國(guó)際性展會(huì)。

2026深圳國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜展會(huì)

時(shí)間：2026年4月9-11日   

地點(diǎn)：深圳會(huì)展中心（福田）       

█展會(huì)背景

微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動(dòng)力，21世紀(jì)光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來(lái),在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。

隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高端芯片的集成度達(dá)到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管，推動(dòng)芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展，在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機(jī)日趨無(wú)法滿足高性能、高密度、低成本的先進(jìn)封裝工藝發(fā)展需求的情況下，先進(jìn)的大視場(chǎng)、大焦深、高精度投影光刻機(jī)逐步成為先進(jìn)封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。由上海訓(xùn)通展覽有限公司于眾多協(xié)會(huì)攜手在深圳會(huì)展中心舉辦“2026深圳國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會(huì)暨發(fā)展論壇”，歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀！                                            

█日程安排：

報(bào)道布展：2026年4月07-08日        開幕式：2026年4月09日09：30

展示交易：2026年4月09-11日        撤    展：2026年4月11日15：00

 

█頂級(jí)盛會(huì)（大會(huì)設(shè)贊助、協(xié)辦單位，詳情請(qǐng)致電組委會(huì)）

品牌展示

高層論壇

行業(yè)用戶洽談會(huì)

外商采購(gòu)會(huì)

新技術(shù)新產(chǎn)品發(fā)布會(huì)  

“搭建國(guó)際采購(gòu)貿(mào)易平臺(tái)、促進(jìn)企業(yè)交流合作、提高參展效果”

                                                           將是我們的目標(biāo)！

◆規(guī)模空前展出面積35,000平方米，國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)展位共800個(gè)，超50000名專業(yè)觀眾

◆商機(jī)無(wú)限采購(gòu)商云集，光刻設(shè)備與掩膜技術(shù)行業(yè)巨大商機(jī)全面彰顯，接觸分享全球光刻設(shè)備與掩膜技術(shù)行業(yè)市場(chǎng)潛力

◆技術(shù)薈萃國(guó)內(nèi)外最新產(chǎn)品及成果薈萃，展會(huì)-論壇-經(jīng)貿(mào)合作，是企業(yè)宣傳及市場(chǎng)開拓的高效平臺(tái)

◆項(xiàng)目匯聚每年一度的行業(yè)例會(huì)，貿(mào)易對(duì)口洽談，國(guó)際貿(mào)易公司定點(diǎn)采購(gòu)，是會(huì)展招商的重要平臺(tái)

█展品范圍：

seline;"> ◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等；

seline;"> ◆光刻機(jī)、光刻技術(shù)、步進(jìn)投影光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、納米光刻技術(shù)、無(wú)掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機(jī)、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機(jī)、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機(jī)、光刻機(jī)零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無(wú)機(jī)芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等；

seline;"> ◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測(cè)試等；

seline;"> █觀眾范圍：

seline;"> ◆展會(huì)將邀請(qǐng)全國(guó)、省、市、各相關(guān)科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機(jī)系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國(guó)防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽(yáng)能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機(jī)構(gòu)和公共機(jī)構(gòu)的專家代表等人員到會(huì)參觀、洽談。

seline;"> ◆預(yù)計(jì)展覽會(huì)將吸引來(lái)自中國(guó)、日本、歐洲、北美、韓國(guó)、臺(tái)灣等國(guó)家和地區(qū)的決策者和專業(yè)人士。來(lái)自各國(guó)的參展商可以在展會(huì)中面對(duì)面會(huì)見(jiàn)極具潛力的應(yīng)用客戶群和合作伙伴。參展商通過(guò)光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展會(huì)，進(jìn)一步發(fā)展中國(guó)和亞洲地區(qū)市場(chǎng)。

◆新技術(shù)發(fā)布會(huì)、新產(chǎn)品推廣會(huì)，專題研討會(huì)

seline;"> 主辦單位計(jì)劃在展覽期間開展一系列新產(chǎn)品新技術(shù)發(fā)布會(huì)、新產(chǎn)品推廣會(huì)、產(chǎn)品專題研討會(huì)，參展商可以獲得研討會(huì)優(yōu)先贊助權(quán)，有關(guān)公司可以自主確定報(bào)告內(nèi)容，負(fù)責(zé)提供相關(guān)文件，每家贊助公司可以自定邀請(qǐng)觀眾數(shù)量。

★ 每場(chǎng)收費(fèi)30,000元RMB，時(shí)間為25分鐘（含場(chǎng)地各類配套設(shè)施、宣傳費(fèi)用等）

█參展事項(xiàng)

1、參展單位詳細(xì)填寫好《參展合同表》并加蓋公章，郵寄或傳真至組委會(huì)；

2、組委會(huì)收到確認(rèn)申請(qǐng)表，參展商于3個(gè)工作日內(nèi)將參展費(fèi)用50%或全款匯入組委會(huì)帳戶，并將匯款憑證傳真至組委會(huì)以便查對(duì)，否則不予保留預(yù)訂展位。

3、展位安排以“先報(bào)名、先交款、先安排”為原則，組委會(huì)有權(quán)對(duì)少量展位予以調(diào)整；

4、展品運(yùn)輸、展會(huì)接待、住宿等事宜將在開展前一個(gè)月組委會(huì)另行發(fā)送《參展商手冊(cè)》。